第五章 化工生产中的重要非金属元素
第三节 无机非金属材料
课时训练
一、选择题,共12题:
1、硅及其化合物在材料领域中应用广泛。下列叙述中不正确的是
A、硅单质可用来制造太阳能电池
B、硅单质是制造玻璃的主要原料
C、石英(SiO2)可用来制作工艺品
D、二氧化硅是制造光导纤维的材料
2.下列物质中,不含有硅酸盐的是( )
A.水玻璃 B.硅芯片
C.黏土 D.普通水泥
3.制造太阳能电池需要高纯度的硅,工业上制高纯度硅常用以下反应来实现:(1)Si(粗)+3HClSiHCl3+H2,(2)SiHCl3+H2Si+3HCl。对上述两个反应的下列叙述中,错误的是( )
A.两个反应都是置换反应
B.两个反应中的H2均为还原剂
C.两个反应的条件不同
D.两个反应都是氧化还原反应
4、有一类物质可表示为Al2O3·2SiO2·2H2O,这类物质是一种( )
A.混合物 B.含氧酸 C.硅酸盐 D.铝酸盐
5.下列关于硅酸的叙述,错误的是( )
A.硅酸是一种很弱的酸
B.硅酸可由二氧化硅与水反应制得
C.硅酸不稳定,加热脱水会生成二氧化硅
D.硅酸可以由可溶性硅酸盐与盐酸反应制得
6.有科学家认为:硅是“21世纪的能源”、“未来的石油”,下列有关硅可能成为新型能源的叙述中不正确的是( )
A.自然界存在大量硅单质
B.自然界的硅易开采,且可再生
C.硅燃料便于运输、贮存,从安全角度考虑,硅是优质燃料
D.硅燃料燃烧放出的热量多,其燃烧产物对环境的污染容易有效地控制
7.能证明碳酸的酸性比硅酸强的事实是( )
A.CO2溶于水生成碳酸,SiO2不溶于水也不能跟水直接反应生成硅酸
B.在高温条件下,SiO2和Na2CO3能发生反应:SiO2+Na2CO3Na2SiO3+CO2↑
C.SiO2熔点比CO2高
D.CO2通入Na2SiO3稀溶液中,生成白色胶状沉淀,所生成的H2SiO3逐渐聚合而形成硅酸溶胶
8.据报导我国科学家近年来研制出一种新型“连续纤维增韧”航空材料,其主要成分是由碳化硅、陶瓷和碳纤维复合而成。下列相关叙述不正确的是( )
A.它耐高温抗氧化
B.它比钢铁轻、硬,但质地较脆
C.它没有固定熔点
D.它是一种新型无机非金属材料
9.根据不同部位的工作条件,航天飞机使用下述几种防热材料:①头锥和机翼前缘受气体摩擦最大,使用表面涂硅的碳碳复合材料。②机身和机翼下表面使用高温陶瓷瓦。③机身侧面和机翼上表面使用高温陶瓷瓦。④货舱门、尾段机身等采用聚芳酰胺纤维材料制造的毡瓦。下列对新型陶瓷材料的有关叙述中不正确的是( )
A.高温结构陶瓷属于新型无机非金属材料,可以作为高级耐火材料
B.氧化铝陶瓷属于新型无机非金属材料,它是高温结构材料
C.氮化硅陶瓷属于新型无机非金属材料,可用于制造陶瓷柴油机的受热面
D.新型无机非金属材料克服了传统无机非金属材料的缺点,但是强度比较差
10.下列不能用带玻璃塞的试剂瓶保存的溶液是( )
A.硫酸钠溶液 B.烧碱溶液
C.硝酸溶液 D.浓硫酸
11. 下列说法不正确的是( )
A. 因为SiO2 不溶于水,故H2SiO3不是SiO2 对应的酸或者说SiO2 不是H2SiO3 对应的酸酐
B. CO2 通入水玻璃可以得到硅酸沉淀
C. SiO2 是一种空间立体网状结构的晶体,熔点高、硬度大
D. 氢氟酸能够雕刻玻璃,故不能用玻璃瓶来盛氢氟酸
12. 磷酸钙陶瓷也是一种新型无机材料,它可用于制造人造骨骼,这是利用了这种材料的( )
A. 耐高温特性 B. 电学特性 C. 光学特性 D. 生物功能
二、非选择题:
13、I、SiO2在自然界中广泛存在,它是制备现代通讯材料 (写该材料名称)
的主要原料;以SiO2为原料,在工业上制备单质硅的化学方程式为 ;在常温下,SiO2可与一种酸发生反应,该反应的化学方程式为 。该反应的重要应用是 。
II、A、B、C、D、E代表单质或化合物,它们之间的相互转换关系如图所示。A为地壳中含量仅次于氧的非金属元素的单质,其晶体结构与金刚石相似。
请填空:
(1)形成单质A的原子的结构示意图为________,它的最高化合价为________。
(2)B的化学式(分子式)为_______________________________,
B和碳反应生成A和E的化学方程式为_____________________。
(3)C的化学式(分子式)为________,D的化学式(分子式)为________。
14、氮化硅(氮显-3价,硅显+4价)是一种高温陶瓷材料,它的硬度大、熔点高、化学性质稳定,工业上曾普遍采用高纯硅与纯氮在1300 ℃时反应获得。
(1)写出N的原子结构示意图________和氮化硅的化学式________。
(2)氮化硅陶瓷抗腐蚀能力强,除氢氟酸外,它不与其他无机酸反应。试推测该陶瓷被氢氟酸腐蚀的化学方程式___________________________________。
(3)现用四氯化硅和氮气在氢气气氛保护下,加强热发生反应,可得较高纯度的氮化硅,反应的化学方程式为_____________________。
15、硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题:
制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式 .
②整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式 ;H2还原SiHCl3过程中若混02,可能引起的后果是 。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是 (填字母).
A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C. 高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料----光导纤维
D. 普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(
高温
)答案:
13、I、光导纤维 SiO2+2C Si+2CO↑
SiO2+4HF SiF4↑+2H2O 刻蚀玻璃
II、
(2)SiO2 SiO2+2CSi+2CO↑
(3)CaSiO3 Na2SiO3
14、
(2)Si3N4+12HF===3SiF4↑+4NH3↑
(3)3SiCl4+2N2+6H2Si3N4+12HCl
(
高温
)
15、①SiHCl3+H2==== Si+3HCl (条件1357K)
②3SiHCl3+3H2O===H2SiO3+H2↑+3HCl;
高温下,H2遇O2发生爆炸.
(2) BC