化学试卷
本试卷满分100分,考试用时75分钟。
注意事项:
1.答题前,考生务必将自己的姓名、考生号、考场号、座位号填写在答题卡上。
2.回答选择题时,选出每小题答案后,用铅笔把答题卡上对应题目的答案标号涂
黑。如需改动,用橡皮擦干净后,再选涂其他答案标号。回答非选择题时,将答案写在
答题卡上。写在本试卷上无效。
3.考试结束后,将本试卷和答题卡一并交回。
4.本试卷主要考试内容:人教版必修第一册、必修第二册、选择性必修1第一章。
5.可能用到的相对原子质量:H1C12N14016Cu64Zn65
一、选择题:本题共15小题,每小题3分,共45分。在每小题给出的四个选项中,只有一项是符
合题目要求的。
1.文物见证历史。下列文物的主要成分属于硅酸盐材质的是
A.铁胄
B名瓷
C.《岁寒三友图》纸画
D.汉服
2.下列化学用语使用正确的是
A.乙烯的空间填充模型:
B.硬度:二氧化硅>石墨
C.1,2-二溴乙烷的结构简式:CH一CH
D.挥发性:浓硫酸>浓硝酸
Br Br
3.往0.01mol·L-1Ba(OH)2溶液中匀速滴入试剂a,混合溶液的电导率随时间的变化如图所
示,试剂a可能是
3
t
汤
10
5
0
20406080100120140160180200
时间/s
A0.01mol·L-1BaCl2溶液
B.蒸馏水
C.0.02mol·L-1Na2SO4溶液
D.0.2mol·L-1CuSO4溶液
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4.下列实验能达到实验目的的是
玻瑞华
镁条
氢气
氯酸抑
氧化锁与铝
粉的混合物
滴有份低
浓脉酸
的水浮液
A浓硫酸的稀释
BNO气体的收集
C金属铁的冶炼
D.氨气的喷泉实验
5.SiHCl,是制备半导体材料硅的亚要原料,可由不同途径制备。由SiCL,(g)制备SiHCI3(g)涉
及的反应有:
反应I.SiCl(g)+H2(g)SiHCls(g)+HCl(g)△H1;
反应Ⅱ.SiHCl3(g)+H2(g)—Si(g)+3HCl(g)△H2;
反应Ⅲ.SiCL(g)+2H2(g)Si(g)+4HCl(g)
△H3。
则△H1、△H2、△H3之间关系正确的是
A.△H1+△H2=△H3
B.2△H1+△H2=△H3
C.△H1+△H2=2AH3
D.2△H1+△H2=3△H3
6.下列离子方程式书写正确的是
A.向过氧化钠固体中加人水:2O2+2H20一4OH+()2个
B.常温下.向NaOH溶液中证人C2:C2+2OH一CI+Cl)+H2O
C.向稀盐酸中加人铜粉:Cu十2H+一Cu++H21
D.向氯化钙溶液中通入过试CO2:CO2+HO一HCO3+H+
7.W、X、Y、乙为短周期主族元茶.原子序数依次增大,这4种元素的最外层电子数之和为20。
W2为空气中含量最多的气体,元索X和Z位于同一主族且X为地壳中含量最多的元素。下
列说法正确的是
A化合物Y2X,既可溶于强酸也可溶于强碱
B最简单氢化物的沸点:V>X
C.相同条件下,密度:X2D.原子半径:>Y
8.部分含铁物质的分类与相应化合价的关系如图所示。下列说法错误的是
化合价
3
+2
单质
氧化物盐
A.b、g均是碱性氧化物
B.c溶液常用于刻蚀印刷电路板的铜箔
C.纯净的d为白色固体
D.d-e-f-c可以实现一步转化
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